小型等離子裝置

更新時間：2025-06-01

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簡要描述：

PiPi小型等離子裝置介紹
高頻輸出 200W,反應(yīng)腔 W130×D130mm
經(jīng)濟型、較適合于研究開發(fā)用小型等離子清洗機。
特點
● 經(jīng)濟型等離子清洗機
● 簡單的等離子處理操作
● 等離子模式為RIE模式

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產(chǎn)品介紹

PiPi小型等離子裝置介紹

高頻輸出 200W,反應(yīng)腔 W130×D130mm。

經(jīng)濟型、適合于研究開發(fā)用小型等離子清洗機。

特點

● 經(jīng)濟型等離子清洗機

● 簡單的等離子處理操作

● 等離子模式為RIE模式

用途

● 去除有機物

● 樹脂/膜等表面改質(zhì)

● 改善粘接效果

● 提高親水性

● 去除金屬氧化物

● 蝕刻

等離子為氣體發(fā)生電離狀態(tài)，形成帶有正電的離子及帶有負電的電子狀態(tài)。等離子為帶有高能量、反應(yīng)性非常高的狀態(tài)，其容易與物質(zhì)表面進行反應(yīng)的特性被廣泛使用。

等離子RIE（Reactive Ion Etching 方式）

RIE是去除物體表面的有機物污垢，同時去除無機物的合適的清洗方式。

RIE方式為加速離子層中的陽離子，沖擊污染表面的物理性清洗方式。

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